湖南制造射频功率放大器技术 能讯通信科技供应

    需要满足：r20+r30＝r0，x20+x30＝x0，在zin和z30已知的情况下，可以计算得到r20和x20，进一步的，在第二电阻和开关的参数已知的情况下，可以计算得到电感的参数值。因为加入输入匹配电路后的等效阻抗z20+z30与输入阻抗zin能实现较好的匹配，因此，输入端的回波损耗可满足要求。其中，因为电感集成于硅基芯片上，所以，电感的品质因数一般不大于5。因为电感的品质因数小，湖南制造射频功率放大器技术，因此在非负增益模式下，可控衰减电路的频选特性不明显，频率响应带宽较宽。在负增益模式下，回波损耗和频率响应带宽也能满足要求。在一个可能的示例中，驱动放大电路102包括：第二电容c2、第二mos管t2和第三mos管t3，其中：第二mos管的栅级与第三电阻的第二端连接，湖南制造射频功率放大器技术，第二mos管的漏级与第三mos管的源级连接，第二mos管的源级接地，第二电容的端连接第三mos管的栅级，第二电容的第二端接地。其中，第二mos管t2和第三mos管t3的器件尺寸一样。在一个可能的示例中，湖南制造射频功率放大器技术，反馈电路103包括：第三电容c3、第四电容c4、第五电容c5、第六电容c6、第四电阻r4、第五电阻r5和开关k1，其中：第四电容的端和第六电容的端连接第三mos管的漏级，第四电容的第二端连接第四电阻的端，第四电阻的第二段连接第三电容的端。根据晶体管的增益斜率和放大器增益要求，确定待综合匹配网络的衰减斜 率、波纹、带宽，并导出其衰减函数。湖南制造射频功率放大器技术

    图1：某型号60WGaAsFET的内部结构这款晶体管放大器可以提供EMC领域的基础标准IEC61000-4-3和IEC61000-4-6所强调的很好的线性度，如图2所示。图2：某晶体管的输入输出线性度这个晶体管可以在工作频率范围内提供所需的功率，它的输出功率与频率的关系如图3所示。图3：某晶体管的输出功率与频率的关系3.射频微波功率晶体管采用的半导体材料的类型在用于EMC领域的功率放大器中会用到不同种类的晶体管，下面对典型的晶体管及其工作特性进行简单介绍，由于不同种类的半导体材料具有不同的特性，功率放大器的设计者需要根据实际需求进行选择和设计。在射频微波功率放大器中采用的半导体材料主要包括以下几种。双极结型晶体管（BJT）双极性结型晶体管（bipolarjunctiontransistor,BJT）就是我们通常说的三极管，是一种具有三个端子的电子器件，由三部分掺杂程度不同的半导体制成，晶体管中的电荷流动主要是由于载流子在PN结处的扩散作用和漂移运动。这种晶体管的工作，同时涉及电子和空穴两种载流子的流动，因此它被称为双极性的，所以也称双极性载流子晶体管。常见的有锗晶体管和硅晶体管，可采用电流控制，在一定范围内，双极性晶体管具有近似线性的特征。湖南制造射频功率放大器技术微波固态功率放大器的电路设计应尽可能合理简化。

    且串联电感的个数比到地电容的个数多1。在具体实施中，当lc匹配电路为两阶匹配滤波电路时，参照图4，给出了本发明实施例中的再一种射频功率放大器的电路结构图。图4中，lc匹配滤波电路包括第四电感l4以及第四电容c4，其中：第四电感l4的端与主次级线圈121的第二端耦接，第四电感l4的第二端与射频功率放大器的输出端output耦接；第四电容c4的端与第四电感l4的第二端耦接，第四电容c4的第二端接地。参照图5，给出了本发明实施例中的又一种射频功率放大器的电路结构图。与图4相比，图5中，lc匹配滤波电路还包括第五电感l5以及第六电感l6，其中：第五电感l5串联在第四电容c4的第二端与地之间，第六电感l6串联在第四电容c4的端与射频功率放大器的输出端output之间。参照图6，给出了本发明实施例中的再一种射频功率放大器的电路结构图。与图5相比，lc匹配滤波电路还可以包括第五电容c5、第七电感l7以及第八电感l8，其中：第五电容c5的端与第六电感l6的第二端耦接，第五电容c5的第二端与第七电感l7的端耦接；第七电感l7的端与第五电容c5的第二端耦接，第七电感l7的第二端接地；第八电感l8的端与第五电容c5的端耦接，第八电感l8的第二端与射频功率放大器的输出端output耦接。

将从2019年开始为GaN器件带来巨大的市场机遇。相比现有的硅LDMOS（横向双扩散金属氧化物半导体技术）和GaAs（砷化镓）解决方案，GaN器件能够提供下一代高频电信网络所需要的功率和效能。而且，GaN的宽带性能也是实现多频带载波聚合等重要新技术的关键因素之一。GaNHEMT（高电子迁移率场效晶体管）已经成为未来宏基站功率放大器的候选技术。由于LDMOS无法再支持更高的频率，GaAs也不再是高功率应用的优方案，预计未来大部分6GHz以下宏网络单元应用都将采用GaN器件。5G网络采用的频段更高，穿透力与覆盖范围将比4G更差，因此小基站（smallcell）将在5G网络建设中扮演很重要的角色。不过，由于小基站不需要如此高的功率，GaAs等现有技术仍有其优势。与此同时，由于更高的频率降低了每个基站的覆盖率，因此需要应用更多的晶体管，预计市场出货量增长速度将加快。预计到2025年GaN将主导RF功率器件市场，抢占基于硅LDMOS技术的基站PA市场。根据Yole的数据，2014年基站RF功率器件市场规模为11亿美元，其中GaN占比11%，而横向双扩散金属氧化物半导体技术（LDMOS）占比88%。2017年，GaN市场份额预估增长到了25%，并且预计将继续保持增长。预计到2025年GaN将主导RF功率器件市场。微波功率放大器在大功率下工作要合理设计功放结构加装散热器以 提高功放管热量辐散效率保证放大器稳定工作。

    1.射频微波功率放大器及其应用放大器是用来以更大的功率、更大的电流，更大的电压再现信号的部件。在信号处理过程中不可或缺的放大器，既可以做成用在助听器里的微晶片，也可以做成像多层建筑那么大以便向水下潜艇或外层空间传输无线电信号。功率放大器可以被认为是将直流（DC）输入转换成射频和微波能量的电路。不是在电磁兼容领域需要在射频和微波频率上产生足够的功率，在无线通信、雷达和雷达干扰，医疗功率发射机和高能成像系统等领域都需要，每种应用领域都有它对频率、带宽、负载、功率、效率和成本的独特要求。射频和微波功率可以利用不同的技术和不同的器件来产生。本文着重介绍在EMC应用中普遍使用的固态射频功率放大器技术，这种固态放大器的频率可以达到6GHz甚至更高，采用了A类，AB类、B类或C类放大器的拓扑结构。2.射频微波功率晶体管概述随着半导体技术的不断进步，可用于RF功率放大器的器件和种类越来越多。各种封装器件被普遍采用，图1显示了一个典型的盖子被移除的晶体管。这是一个大功率为60W的采用了GaAsFET的平衡微波晶体管，适合推挽式的AB类放大器使用。在所有微波发射系统中，都需要功率放大器将信号放大到足够的功 率电平，以实现信号的发射。江苏高科技射频功率放大器制定

随着无线通信/雷达通信系统的发展对固态功率放大器提出了新 的要求：大功率输出、高效率、高线性度、高频率.湖南制造射频功率放大器技术

    控制信号vgg通过电阻与开关连接，同时通过备用电阻与备用开关连接。备用电阻的参数与电阻的参数相同，二者都是作为上拉电阻给开关供电。备用开关的参数与开关的参数相同，开关和备用开关的寄生电阻皆为单开关的寄生电阻值ron的一半，因此双开关的整体寄生电阻值与单开关的寄生电阻值相同。开关和备用开关的控制逻辑相同：非负增益模式下，开关和备用开关同时关断；负增益模式下，开关和备用开关同时打开，不需要考虑电阻r1和备用电阻rn。其中，开关和备用开关均为n型mos管，其具体的类型可以是绝缘体上硅mos管，也可以是平面结构mos管。可见，在本申请实施例中，因为使用了叠管设计，将开关和备用开关叠加，使得mos管的耐压能力和静电释放能力提升，相对于单mos管，能在大电流下更好的保护开关和备用开关，使其不被损坏。在一个可能的示例中，输入匹配电路101包括第三电阻r3、电容c1和第二电感l2，第二电感的端连接第二电阻的第二端，第二电感的第二端连接电容的端，电容的第二端连接第三电阻的端。在图9中，假设输入端的输入阻抗zin＝r0-jx0，可控衰减电路的等效阻抗为z20＝r20+jx20，输入匹配电路的等效阻抗为z30＝r30+jx30，为了实现z20和zin的共轭匹配。湖南制造射频功率放大器技术

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