云南高科技射频功率放大器制定 能讯通信科技供应

    用于放大所述级间匹配电路输出的信号；所述输出匹配电路，云南高科技射频功率放大器制定，用于使所述射频功率放大器电路和后级电路之间阻抗匹配。本申请实施例中，通过射频功率放大器电路中的可控衰减电路、反馈电路、驱动放大电路、功率放大电路等电路对输入信号进行处理，实现射频功率放大器电路的负增益模式与非负增益模式之间的切换，电路结构简单，能有效的降低硬件成本。附图说明图1a为本发明实施例提供的相关技术中射频功率放大器电路的组成结构示意图；图1b为本发明实施例提供的相关技术中射频功率放大器电路的电路结构示意图；图2a为本发明实施例提供的射频功率放大器电路的组成结构示意图；图2b为本发明实施例提供的射频功率放大器电路的电路结构示意图图3为本发明实施例提供的可控衰减电路的示意图；图4为本发明实施例提供的可控衰减电路的示意图；图5a为本发明实施例提供的可控衰减电路和输入匹配电路的示意图；图5b为本发明实施例提供的可控衰减电路和输入匹配电路的示意图；图6为本发明实施例提供的反馈电路的示意图；图7为本发明实施例提供的偏置电路的示意图；图8为本发明实施例提供的可控衰减电路的等效示意图；图9为本发明实施例提供的可控衰减电路的的示意图。随着无线通信/雷达通信系统的发展对固态功率放大器提出了新 的要求：大功率输出，云南高科技射频功率放大器制定，云南高科技射频功率放大器制定、高效率、高线性度、高频率.云南高科技射频功率放大器制定

    并对漏级供电电压vcc进行控制，从而使偏置电路中漏级电流、栅级电压变大，使射频功率放大器电路的整体增益满足要求。本发明实施例提供的技术方案具有以下优点：在信号的输入端设计可变衰减电路，在实现射频功率放大器电路负增益的同时，对非负增益模式下该电路性能的影响很小，并且加强了对输入端口的静电保护，电路结构简单，占用芯片面积小，能有效的降低硬件成本。本发明实施例还提供了一种增益控制方法，应用于上述实施例中的的射频功率放大器电路，包括：终端中的微控制器通过通信模组接收到控制信息后，确定射频功率放大器电路的工作模式，并通过发送模式控制信号控制射频功率放大器电路进入工作模式；可控衰减电路，根据终端中微处理器发送的模式控制信号，实现射频功率放大器电路的负增益模式与非负增益模式之间的切换；输入匹配电路，使可控衰减电路和驱动放大电路之间阻抗匹配；驱动放大电路，放大输入匹配电路输出的信号；反馈电路，调节射频功率放大器电路的增益；级间匹配电路，使驱动放大电路和功率放大电路之间阻抗匹配；功率放大电路，放大级间匹配电路输出的信号；输出匹配电路，使射频功率放大器电路和后级电路之间阻抗匹配。其中。云南射频功率放大器技术微波功率放大器工作处于非线性状态放大过程中会产生的谐波分量，输入、输出匹配网络除起到阻抗变换作用外。

将从2019年开始为GaN器件带来巨大的市场机遇。相比现有的硅LDMOS（横向双扩散金属氧化物半导体技术）和GaAs（砷化镓）解决方案，GaN器件能够提供下一代高频电信网络所需要的功率和效能。而且，GaN的宽带性能也是实现多频带载波聚合等重要新技术的关键因素之一。GaNHEMT（高电子迁移率场效晶体管）已经成为未来宏基站功率放大器的候选技术。由于LDMOS无法再支持更高的频率，GaAs也不再是高功率应用的优方案，预计未来大部分6GHz以下宏网络单元应用都将采用GaN器件。5G网络采用的频段更高，穿透力与覆盖范围将比4G更差，因此小基站（smallcell）将在5G网络建设中扮演很重要的角色。不过，由于小基站不需要如此高的功率，GaAs等现有技术仍有其优势。与此同时，由于更高的频率降低了每个基站的覆盖率，因此需要应用更多的晶体管，预计市场出货量增长速度将加快。预计到2025年GaN将主导RF功率器件市场，抢占基于硅LDMOS技术的基站PA市场。根据Yole的数据，2014年基站RF功率器件市场规模为11亿美元，其中GaN占比11%，而横向双扩散金属氧化物半导体技术（LDMOS）占比88%。2017年，GaN市场份额预估增长到了25%，并且预计将继续保持增长。预计到2025年GaN将主导RF功率器件市场。

其次是低端智能手机（35%）和奢华智能手机（13%）。25G基站，PA数倍增长，GaN大有可为5G基站，射频PA需求大幅增长5G基站PA数量有望增长16倍。4G基站采用4T4R方案，按照三个扇区，对应的PA需求量为12个，5G基站，预计64T64R将成为主流方案，对应的PA需求量高达192个，PA数量将大幅增长。5G基站射频PA有望量价齐升。目前基站用功率放大器主要为基于硅的横向扩散金属氧化物半导体LDMOS技术，不过LDMOS技术适用于低频段，在高频应用领域存在局限性。对于5G基站PA的一些要求可能包括3~6GHz和24GHz~40GHz的运行频率，RF功率在，预计5G基站GaN射频PA将逐渐成为主导技术，而GaN价格高于LDMOS和GaAs。GaN具有优异的高功率密度和高频特性。提高功率放大器RF功率的简单的方式就是增加电压，这让氮化镓晶体管技术极具吸引力。如果我们对比不同半导体工艺技术，就会发现功率通常会如何随着高工作电压IC技术而提高。硅锗(SiGe)技术采用相对较低的工作电压（2V至3V），但其集成优势非常有吸引力。GaAs拥有微波频率和5V至7V的工作电压，多年来一直应用于功率放大器。硅基LDMOS技术的工作电压为28V，已经在电信领域使用了许多年，但其主要在4GHz以下频率发挥作用。射频功率放大器器件放大管基本上由氮化镓，砷化镓，LDMOS管电路运用。

    RF)微波和毫米波应用，设计和开发高性能集成电路、模块和子系统。这些应用包括蜂窝、光纤和卫星通信，以及医学及科学成像、工业仪表、航空航天和防务电子。凭借近30年的经验和创新实践，Hittite在模拟、数字和混合信号半导体技术领域有着深厚的积淀，从器件级到完整子系统的设计和装配，覆盖面十分。HittiteMicrowave于2014年被AnalogDevices,Inc.（ADI）收购合并。但笔者还是更喜欢Hittite作为射频微波器件的名称，所以暂不更改称呼^_^。笔者本人并没用用过Hittite的WiFiPA，倒是用过其他频段GainBlock和PA，查找其官方网站，似乎也只有一款PA适用于WiFi行业，HMC408，其性能如下。MicrochipMicrochip（2010年收购了SST）是全球的单片机和模拟半导体供应商，为全球数以千计的消费类产品提供低风险的产品开发、更低的系统总成本和更快的产品上市时间。Mircrochip的WiFiPA常见于Mediatek（Ralink）的参考设计。微波固态功率放大器的工作频率高或微带电 路对器件结构元器件装配电路板布线腔体螺钉位置等都 有严格要求。北京EMC射频功率放大器定制

GaN作为功率放大器中具有优良材料 的宽带隙半导体材料之一被誉为第5代半导体在微电应用领域存 在的应用.云南高科技射频功率放大器制定

    且串联电感的个数比到地电容的个数多1。在具体实施中，当lc匹配电路为两阶匹配滤波电路时，参照图4，给出了本发明实施例中的再一种射频功率放大器的电路结构图。图4中，lc匹配滤波电路包括第四电感l4以及第四电容c4，其中：第四电感l4的端与主次级线圈121的第二端耦接，第四电感l4的第二端与射频功率放大器的输出端output耦接；第四电容c4的端与第四电感l4的第二端耦接，第四电容c4的第二端接地。参照图5，给出了本发明实施例中的又一种射频功率放大器的电路结构图。与图4相比，图5中，lc匹配滤波电路还包括第五电感l5以及第六电感l6，其中：第五电感l5串联在第四电容c4的第二端与地之间，第六电感l6串联在第四电容c4的端与射频功率放大器的输出端output之间。参照图6，给出了本发明实施例中的再一种射频功率放大器的电路结构图。与图5相比，lc匹配滤波电路还可以包括第五电容c5、第七电感l7以及第八电感l8，其中：第五电容c5的端与第六电感l6的第二端耦接，第五电容c5的第二端与第七电感l7的端耦接；第七电感l7的端与第五电容c5的第二端耦接，第七电感l7的第二端接地；第八电感l8的端与第五电容c5的端耦接，第八电感l8的第二端与射频功率放大器的输出端output耦接。云南高科技射频功率放大器制定

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