
3、本发明还设置了电荷存储层,电荷存储层结合第二屏蔽电极结构能更好的防止集电区注入的少子进入到沟道区域中,从而能降低降低器件的饱和压降。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:图1是本发明实施例一实施例igbt器件的结构示意图;图2是本发明实施例第二实施例igbt器件的结构示意图;图3a-图3g是本发明一实施例方法各步骤中器件的结构示意图。具体实施方式本发明实施例一实施例igbt器件:如图1所示,是本发明实施例一实施例igbt器件的结构示意图,本发明一实施例igbt器件包括:漂移区1,由形成于半导体衬底(未显示)表面的一导电类型轻掺杂区组成。本发明实施例一实施例中,所述半导体衬底为硅衬底;在所述硅衬底表面形成有硅外延层,所述漂移区1直接由一导电类型轻掺杂的所述硅外延层组成,所述阱区2形成于所述漂移区1表面的所述硅外延层中。第二导电类型掺杂的阱区2,形成于所述漂移区1表面。在所述漂移区1的底部表面形成有由第二导电类重掺杂区组成的集电区9。电荷存储层14,所述电荷存储层14形成于所述漂移区1的顶部区域且位于所述漂移区1和所述阱区2交界面的底部,所述电荷存储层14具有一导电类重掺杂。
TA=125°C图7其他公司的IGBT的低端IGBT开关电压和dV/dt感生电流的18A峰值图8IRGP30B120KD-EIGBT的低端IGBT开关电压和dV/dt感生电流的dV/dt感生电流的减小清楚说明单正向栅驱动设计的优胜之处。但在这个测试中,Co-Pack二极管电流的影响并没有完全计算在内。为了只显示出IGBT对整体电流的影响,我们只利用相同的分立式反并联二极管再重复测试,如图9中的Ice(cntrl)。图9利用相同的分立式Co-Pack二极管产生的dV/dt感生电流图10显示出在没有IGBT情况下,负偏置栅驱动器IGBT的I电流。图11为IRGP30B120KD-E单正向栅驱动器的I电流。两种情况下的电流都很低,分别为1A和。图10其他公司的IGBT的Co-Pack二极管内的低端IGBT的VCE和dV/dt感生电流1A峰值图11IRG30B120KD-E的Co-Pack二极管内的低端IGBT的VCE和dV/dt感生电流如果从整体IGBT/二极管电流中减去图10和图11的二极管电流,结果是I(负偏置栅驱动IGBT)=18-1=17AI(IRGP30B120KD-E)==可见总的减小为17:=21:1在相同的测试条件下,当栅电压是在0V或单正向栅驱动情况下,IRGP30B120KD的电路性能显示dV/dt感生开通电流减小比例为21:1。如果IGBT采用这种方式驱动,电流很小,对功耗的影响几乎可以忽略。
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